A method and apparatus for the correction of integrated circuit layouts for
optical proximity effects which maintains the original true hierarchy of
the original layout is provided. Also provided is a method and apparatus
for the design rule checking of layouts which have been corrected for
optical proximity effects. The OPC correction method comprises providing a
hierarchically described integrated circuit layout as a first input, and a
particular set of OPC correction criteria as a second input. The
integrated circuit layout is then analyzed to identify features of the
layout which meet the provided OPC correction criteria. After the areas on
the mask which need correction have been identified, optical proximity
correction data is generated in response to the particular set of
correction criteria. Finally, a first program data is generated which
stores the generated optical proximity correction data in a hierarchical
structure that corresponds to the hierarchical structure of the integrated
circuit layout. As the output correction data is maintained in true
hierarchical format, layouts which are OPC corrected according to this
method are able to be processed through conventional design rule checkers
with no altering of the data.
Обеспечены метод и прибор для коррекции планов интегрированной цепи для оптически влияний близости поддерживает первоначально поистине иерархию первоначально плана. Также обеспечен метод и приборы для конструкции управляют проверять планов были исправлены для оптически влияний близости. Метод коррекции OPC состоит из обеспечивать иерархически описанный план интегрированной цепи как первый входной сигнал, и определенный комплекта критери по коррекции OPC как второй входной сигнал. План интегрированной цепи после этого проанализирован для того чтобы определить характеристики плана соотвествуют обеспеченной критери по коррекции OPC. После того как были определены зоны на маске коррекция, оптически данные по коррекции близости произведены in response to определенный комплект критери по коррекции. Окончательно, первые данные по программы произведены которые хранят произведенные оптически данные по коррекции близости в иерархической структуре которая соответствует к иерархической структуре плана интегрированной цепи. По мере того как данные по коррекции выхода ведены в поистине иерархической форме, планами которые будут OPC исправленные согласно этому методу могут быть обработанным через обычные контролеры правила конструкции без изменять данных.
