A particle formation diagnosing system monitors the condition of particle formation in each of reaction chambers 1 of a semiconductor device fabricating line on the basis of data provided by a pressure measuring device 2a, a temperature measuring device 2b and a differential mobility analyzer 3 combined with each reaction chamber 1. The operation record recording unit 4a of the computer system 4 records data on the relation between the values of the operation parameters of each reaction chamber 1 and the amount of particles formed in the reaction chamber. Then, the operating condition determining unit 4b determines the optimum values for the operation parameters of the reaction chamber which will reduce the possibility of particle formation to the least possible extent on the basis of the data recorded by the operation record recording unit 4a.

Une formation de particules diagnostiquant le système surveille l'état de la formation de particules dans chacune de chambres 1 de réaction d'une ligne fabriquante de dispositif de semi-conducteur sur la base des données fournies par un appareil de mesure de pression 2a, un appareil de mesure de la température 2b et un analyseur différentiel 3 de mobilité combiné avec chaque chambre 1 de réaction. L'unité 4a d'enregistrement de disque d'opération des données de disques du système informatique 4 sur la relation entre les valeurs des paramètres d'opération de chaque chambre 1 de réaction et la quantité de particules a formé dans la chambre de réaction. Puis, la condition de fonctionnement déterminant l'unité 4b détermine les valeurs optimas pour les paramètres d'opération de la chambre de réaction qui ramènera la possibilité de formation de particules à la moindre ampleur possible sur la base des données enregistrées par l'unité 4a d'enregistrement de disque d'opération.