A pixel cell array for a reflective silicon light valve features a planar surface alignment layer of uniform thickness over the active pixel electrodes. The surface alignment layer is formed by flowing and curing multiple quantities of alignment material. A first quantity of low viscosity alignment material is spun over the surface and settles into trenches between the raised active pixel electrodes. Curing of the first quantity of alignment material forms a lower alignment layer in the trenches, reducing topography offered by the array surface. A second, larger quantity of higher viscosity alignment material is then spun over active pixel electrodes and the lower alignment layer. The second quantity of alignment material is then cured to form a surface alignment layer. Because of reduction in topography of the array surface by the lower alignment layer, the surface alignment layer is both substantially planar and of uniform thickness across the surface of the active pixel electrode. Each of these properties improve the resolution of the pixel cell by reducing misalignment of the LC attributable to topography offered by the surface alignment layer.

Ein Pixelzellenträger für ein reflektierendes Silikonlichtventil kennzeichnet eine planare Oberflächenausrichtung Schicht konstante Stärke über den aktiven Pixelelektroden. Die Oberflächenausrichtung Schicht wird durch die flüssigen und kurierenden mehrfachen Quantitäten Ausrichtung Material gebildet. Eine erste Quantität Material Ausrichtung der niedrigen Viskosität wird über die Oberfläche gesponnen und vereinbart in Gräben zwischen den angehobenen aktiven Pixelelektroden. Das Kurieren der ersten Quantität des Ausrichtung Materials bildet eine niedrigere Ausrichtung Schicht in den Gräben und verringert die Topographie, die durch die Reihe Oberfläche angeboten wird. Ein zweites, größere Quantität höheres Viskositätausrichtung Material ist dann gesponnene aktive Pixelübermäßigelektroden und die niedrigere Ausrichtung Schicht. Die zweite Quantität des Ausrichtung Materials wird dann kuriert, um eine Oberflächenausrichtung Schicht zu bilden. Wegen der Verringerung der Topographie der Reihe Oberfläche durch die niedrigere Ausrichtung Schicht, ist die Oberflächenausrichtung Schicht und von der konstanten Stärke über der Oberfläche der aktiven Pixelelektrode im wesentlichen planar. Jede dieser Eigenschaften verbessern die Auflösung der Pixelzelle, indem es Versatz des LC verringert, der der Topographie zuzuschreibend ist, die durch die Oberflächenausrichtung Schicht angeboten wird.