An apparatus for processing a substrate comprising a processing chamber and a substrate support system comprising an electrostatic chuck having a body portion and a substrate support surface and one or more arms extending from the body portion to mount the electrostatic chuck to a side wall portion of the processing chamber is provided.

Ein Apparat für die Verarbeitung eines Substrates, das einen verarbeitenraum und ein Substratunterstützungssystem enthält eine elektrostatische Klemme hat einen Körperteil und ein Substrat enthält, stützen Oberfläche und ein oder mehr Arme, die vom Körperteil verlängern, um die elektrostatische Klemme zu einem Teil der seitlichen Wand des verarbeitenraumes anzubringen, wird zur Verfügung gestellt.