Disclosed is a positive photoresist composition comprising a polysiloxane containing as a copolymerization component at least a structural unit represented by the following formula (I): ##STR1## wherein L represents a single bond or an arylene group, A' represents an aromacyclic or alicyclic structure which may have a substituent, and n represents an integer of 1 to 6.

É divulgada uma composição positiva do photoresist que compreende um polysiloxane que contem como um componente do copolymerization ao menos uma unidade estrutural representada pela seguinte fórmula (i): ## do ## STR1 wherein L representa uma única ligação ou um grupo do arylene, A ' representa uma estrutura aromacyclic ou alicyclic que possa ter um substituent, e n representa um inteiro de 1 a 6.