A compact, self-contained remote plasma generator is mounted on the lid of a semiconductor processing chamber to form an integrated substrate processing system. The remote plasma generator is activated in a clean operation to generate cleaning plasma species to provide better cleaning of the chamber and lower perfluorocarbon emissions than in situ plasma clean processes. A three-way valve is adjustable to control gas flow to the chamber. During the clean operation, the three-way valve directs a cleaning plasma precursor from a first gas line to the remote plasma generator to generate cleaning plasma species which are flowed to the chamber for cleaning deposits therein. During a deposition process, the three-way valve directs a first process gas from the flat gas line to the chamber, bypassing the remote plasma generator. The first process gas is typically mixed with a second process gas supplied from a second gas line in a mixing device prior to entering the chamber for depositing a layer on a substrate disposed therein.

Ein Vertrag, selbständiger Remoteplasmagenerator wird an der Kappe eines Halbleiters angebracht, der Raum verarbeitet, um ein integriertes Verarbeitungssystem des Substrates zu bilden. Der Remoteplasmagenerator wird in einem sauberen Betrieb aktiviert, um Reinigung Plasmasorte zu erzeugen, um bessere Reinigung des Raumes und untereren der perfluorocarbon Emissionen als saubere Prozesse des Plasmas in situ zur Verfügung zu stellen. Ein Dreiwegeventil ist justierbar, Gasfluß zum Raum zu steuern. Während des sauberen Betriebes verweist das Dreiwegeventil einen Reinigung Plasmavorläufer von einer ersten Gaslinie auf den Remoteplasmagenerator, um Reinigung Plasmasorten zu erzeugen, die zum Raum für Reinigung Ablagerungen darin geflossen werden. Während eines Absetzungprozesses verweist das Dreiwegeventil ein erstes Prozeßgas von der flachen Gaslinie auf den Raum und überbrückt den Remoteplasmagenerator. Das erste Prozeßgas wird gewöhnlich mit einem zweiten Prozeßgas gemischt, das von einer zweiten Gaslinie in einer mischenden Vorrichtung vor dem Eintragen des Raumes für das Niederlegen einer Schicht auf einem Substrat geliefert wird, das darin abgeschaffen wird.