To provide a light emitting device having a highly definite pixel portion. An anode (102) and a bank (104) orthogonal to the anode (102) are formed on an insulator (101). A portion of the bank (104) (controlling bank 104b) is made of a metal film. By applying a voltage thereto, an electric field is formed, and a track of an EL material that is charged with an electric charge can be controlled. Thus, it becomes possible to control a film deposition position of an EL layer with precision by utilizing the above method.

Para proporcionar un dispositivo que emite ligero que tiene una porción altamente definida del pixel. Un ánodo (102) y un banco (104) orthogonal al ánodo (102) se forman en un aislador (101). Una porción del banco (104) (el banco que controla 104b) se hace de una película del metal. Aplicando un voltaje además, un campo eléctrico es formado, y una pista de un material del EL que se cargue con una carga eléctrica puede ser controlada. Así, llega a ser posible controlar una posición de la deposición de la película de una capa del EL con la precisión utilizando el método antedicho.