According to an exemplary embodiment of the invention, a method of forming a plurality of layers on an article comprises steps of generating a plasma by forming an arc between a cathode and an anode; injecting a first material comprising an organic compound into the plasma to deposit a first layer on the article; injecting a second material comprising an organometallic material into the plasma to form a second layer on the first layer; and injecting a third material comprising a silicon containing organic compound into the plasma to deposit a third layer on the second layer. The invention also relates to an article of manufacture comprising a substrate; an interlayer disposed on the substrate; a second layer disposed on the interlayer, the second layer comprising an inorganic ultraviolet absorbing material; and a third layer disposed on the second layer, the third layer comprising an abrasion resistant material. The interlayer may comprise a polymerized organosilicon material or a polymerized hydrocarbon material, for example. The second layer may comprise a metal oxide or zinc sulfide, for example. The third layer may comprise an oxidized organosilicon material, for example.

Согласно примерному воплощению вымысла, метод формировать множественность слоев на статье состоит из шагов производить плазму путем формировать дугу между катодом и анодом; впрыскивать первый материал состоя из органической смеси в плазму для того чтобы депозировать первый слой на статье; впрыскивать второй материал состоя из металлоорганического материала в плазму для того чтобы сформировать второй слой на первом слое; и впрыскивающ третий материал состоя из кремния содержа органическую смесь в плазму для того чтобы депозировать третий слой на втором слое. Вымысел также относит к статье изготовления состоя из субстрата; прослоек размещал на субстрате; второй слой размещал на прослойке, втором слое состоя из неорганического ультрафиолетов absorbing материала; и третий слой размещал на втором слое, третьем слое состоя из материала ссадины упорного. Прослоек может состоять из полимеризованного материала organosilicon или полимеризованного материала углерода, например. Второй слой может состоять из сульфида окиси или цинка металла, например. Третий слой может состоять из окисленного материала organosilicon, например.