The present invention provides for a device for holding a substrate in an
exposure system. In the exposure system, the substrate is positioned on a
table movable in the X and Y coordinates of an X, Y plane, and the
exposure system provides a metering assembly between a table surface and
the substrate to adjust the distance and to align the substrate in
relation to an exposure optics, from where a corpuscular radiation is
directed right-angled onto a substrate surface, corresponding to the Z
coordinate. The device for holding the substrate includes two mounting
plates aligned parallel to the X, Y plane, adjusted upon the table in a
direction to the exposure optics and with different distances to the table
surface, the first mounting plate of which being directly connected to the
table. The second mounting plate is connected with the first mounting
plate through at least one holding device, and has a bearing plane for the
substrate being designed on that side of the second mounting plate turned
to the exposure optics.
La présente invention prévoit un dispositif pour tenir un substrat dans un système d'exposition. Dans le système d'exposition, le substrat est placé sur un mobilier amovible de table dans le X et y D'un avion de X, de Y, et du système d'exposition fournit une assemblée régulateuse entre une surface de table et le substrat pour ajuster la distance et pour aligner le substrat par rapport à un systeme optique d'exposition, d'où un rayonnement corpusculaire est dirigé droit-à angles sur une surface de substrat, correspondant à z. Le dispositif pour tenir le substrat inclut deux parallèles alignés de plats de support au X, avion de Y, ajusté sur la table dans une direction sur le systeme optique d'exposition et avec différentes distances à la surface de table, le premier plat de support dont étant directement relié à la table. Le deuxième plat de support est relié au premier plat de support par au moins un dispositif se tenant, et a un avion de roulement pour le substrat étant conçu de ce côté du deuxième plat de support tourné au systeme optique d'exposition.