Porous dielectric materials having low dielectric constants useful in electronic component manufacture are disclosed along with methods of preparing the porous dielectric materials. Also disclosed are methods of forming integrated circuits containing such porous dielectric materials.

I materiali dielettrici porosi che hanno costanti dielettrici bassi utili nella fabbricazione del componente elettronico sono rilevati con i metodi di preparazione dei materiali dielettrici porosi. Inoltre sono rilevati i metodi di formare i circuiti integrati che contengono tali materiali dielettrici porosi.