The present invention relates to a method for creating a microlithographic pattern on a workpiece, for increased resolution and image fidelity. The method comprises the steps of: providing a source for emitting electromagnetic radiation, illuminating by said radiation a spatial light modulator (SLM) having several pixels, projecting an image of the modulator on the workpiece, further coordinating the movement of the workpiece, the feeding of the signals to the modulator and the intensity of the radiation, so that said pattern is stitched together from the partial images created by the sequence of partial patterns, where an area of the pattern is exposed at least twice with a change in at least one, and preferably at least two, of the following parameters between the exposures: data driven to the SLM, focus, angular distribution of the illumination at the SLM, pupil filtering, polarisation.

Die anwesende Erfindung bezieht auf einer Methode für das Verursachen eines microlithographic Musters auf einem Werkstück, für erhöhte Auflösung und Bildtreue. Die Methode enthält die Schritte von: das Zur Verfügung stellen einer Quelle für das Ausstrahlen der elektromagnetischen Strahlung, durch besagte Strahlung einen räumlichen hellen Modulator (SLM) belichtend einige Pixel, ein Bild des Modulators auf das Werkstück projizierend habend, fördern die Koordinierung der Bewegung des Werkstückes, das Einziehen der Signale zum Modulator und die Intensität der Strahlung, damit besagtes Muster zusammen von den teilweisen Bildern genäht wird, die durch die Reihenfolge der teilweisen Muster verursacht werden, in denen ein Bereich des Musters mindestens zweimal mit einer Änderung in einer mindestens herausgestellt wird, und zwei vorzugsweise mindestens, der folgenden Parameter zwischen den Belichtungen: Daten gefahren zum SLM, Fokus, eckige Verteilung der Ablichtung am SLM, filternde Pupille, Polarisation.