A method and structure for a method of determining characteristics of parasitic elements in an integrated circuit comprising, identifying manufacturing process parameters of devices in the integrated circuit, calculating a parasitic performance distribution for each of the devices based on the manufacturing process parameters, combining the parasitic performance distribution for each of the devices into a net parasitic value, and forming a parameterized model based on the net parasitic values.

Une méthode et une structure pour une méthode de déterminer des caractéristiques des éléments parasites dans un circuit intégré comportant, identifiant des paramètres de processus de fabrication des dispositifs dans le circuit intégré, calculant une distribution parasite d'exécution pour chacun des dispositifs basés sur les paramètres de processus de fabrication, combinant la distribution parasite d'exécution pour chacun des dispositifs dans une valeur parasite nette, et formant un modèle paramétrisé basé sur les valeurs parasites nettes.