A cyano process of introducing cyano ions (CN.sup.-) into an amorphous silicon layer is performed after the amorphous silicon layer has been formed over a substrate or after the layer has been exposed to light. For example, the substrate is immersed in an aqueous solution containing potassium cyanide (KCN) in a vessel. The cyano process eliminates factors (e.g., weak bonds, defects, and centers of recombination) of decrease in photoconductivity of the as-deposited amorphous silicon thin film, which are identifiable in the as-deposited film. As a result, the photoconductivity of the amorphous silicon layer is already higher than usual from the beginning and will hardly decrease even upon exposure to light.

Μια κυανή διαδικασία τα κυανά ιόντα (CN.sup. -) σε ένα άμορφο στρώμα πυριτίου εκτελείται αφότου έχει διαμορφωθεί το άμορφο στρώμα πυριτίου πέρα από ένα υπόστρωμα ή μετά από το στρώμα έχει εκτεθεί στο φως. Παραδείγματος χάριν, το υπόστρωμα βυθίζεται σε ένα διάλυμα ύδατος που περιέχει το κυανίδιο καλίου (KCN) σε ένα σκάφος. Η κυανή διαδικασία εξαλείφει τους παράγοντες (π.χ., αδύνατοι δεσμοί, ατέλειες, και κέντρα του επανασυνδυασμού) της μείωσης στο photoconductivity της όπως-κατατεθειμένης άμορφης λεπτής ταινίας πυριτίου, οι οποίοι είναι ευπροσδιόριστοι στην όπως-κατατεθειμένη ταινία. Κατά συνέπεια, το photoconductivity του άμορφου στρώματος πυριτίου είναι ήδη υψηλότερο από συνηθισμένο από την αρχή και θα μειωθεί μετά βίας ακόμη και επάνω στην έκθεση στο φως.