A display apparatus includes a scanning assembly that scans about two or
more axes, typically in a raster pattern. A plurality of light sources
emit light from spaced apart locations toward the scanning assembly such
that the scanning assembly simultaneously scans more than one of the
beams. The scanning assembly includes a plurality of mirrors that sweep
their respective beams through respective regions of an image field. The
regions are immediately adjacent so that an overall image is produced by
"tiling" of the regions. Because sweeps of the scanning assembly scan a
plurality of tiles simultaneously the resolution and/or field of view of a
display for a given scan angle and mirror size is increased relative to a
single mirror sweeping a single beam. In alternative embodiments, tiling
is used for imaging. Also, various approaches to controlling the frequency
responses of the various scanners are described, including active control
of MEMs scanners and passive frequency tuning.
Un'apparecchiatura dell'esposizione include tipicamente un complessivo di esame che esplora circa due o più ascie, in un modello della trama. Una pluralità di fonti di luce emette la luce dalle posizioni diverse spaziate verso il complessivo di esame tali che il complessivo di esame esplora simultaneamente più di uno dei fasci. Il complessivo di esame include una pluralità di specchi che scopano i loro fasci rispettivi con le regioni rispettive di un campo di immagine. Le regioni sono immediatamente adiacenti in modo che un'immagine generale sia prodotta "coprendo di tegoli" delle regioni. Poiché le spazzate del complessivo di esame esplorano simultaneamente una pluralità di mattonelle la risoluzione e/o il campo di visibilità di un'esposizione per un dato formato di angolo e dello specchio di esplorazione è aumentata riguardante un singolo rispecchiano scopare un singolo irradiano. Negli incorporamenti alternativi, coprire di tegoli è usato per formazione immagine. Inoltre, i vari metodi a controllare le risposte di frequenza di vari dispositivi d'esplorazione sono descritti, compreso controllo attivo dei dispositivi d'esplorazione di MEMs e di sintonizzazione passiva di frequenza.