Provided is a novel semiconductor processing system. The system includes a process chamber for treating a semiconductor substrate with one or more process gases comprising water vapor, means for delivering the water vapor or one or more precursors thereof to the process chamber, an exhaust conduit connected to the process chamber, an absorption spectroscopy system for sensing water vapor in a sample region, and a control system which controls water vapor content in the process chamber. Also provided is a method for controlling the water vapor level in a semiconductor process chamber. The system and method allow for measurement and control of the water vapor level in a semiconductor processing chamber in which water vapor is present as a process gas.

Desde que é um sistema processar do semicondutor da novela. O sistema inclui uma câmara process para tratar uma carcaça do semicondutor com um ou mais gás do processo que compreende o vapor de água, os meios para entregar o vapor de água ou o um ou mais precursors disso à câmara process, a uma canalização da exaustão conectada à câmara process, a um sistema do spectroscopy de absorption para detetar o vapor de água em uma região da amostra, e a um sistema de controle que índice do vapor de água dos controles na câmara process. É fornecido também um método para controlar o nível do vapor de água em uma câmara do processo do semicondutor. O sistema e o método permitem a medida e o controle do nível do vapor de água em um semicondutor que processa a câmara em que o vapor de água é presente como um gás process.