A porous metallic layer is incorporated in one of the electrodes of a plasma treatment system. A plasma gas is injected into the electrode at substantially atmospheric pressure and allowed to diffuse through the porous layer, thereby forming a uniform glow-discharge plasma. The film material to be treated is exposed to the plasma created between this electrode and a second electrode covered by a dielectric layer. Because of the micron size of the pores of the porous metal, each pore also produces a hollow cathode effect that facilitates the ionization of the plasma gas. As a result, a steady-state glow-discharge plasma is produced at atmospheric pressure and at power frequencies as low as 60 Hz. According to another aspect of the invention, vapor deposition is carried out in combination with plasma treatment by vaporizing a substance of interest, mixing it with the plasma gas, and diffusing the mixture through the porous electrode. A heater is used to maintain the temperature of the electrode above the condensation temperature of the substance to prevent deposition during diffusion. Thus, plasma treatment and vapor deposition can be carried out on a target substrate at the same time at atmospheric pressure.

Une couche métallique poreuse est incorporée dans une des électrodes d'un système de traitement de plasma. Un gaz de plasma est injecté dans l'électrode à la pression essentiellement atmosphérique et permis de répandre par la couche poreuse, formant de ce fait un plasma glow-discharge uniforme. Le matériel de film à traiter est exposé au plasma créé entre cette électrode et une deuxième électrode couverte par une couche diélectrique. En raison de la taille de micron des pores du métal poreux, chaque pore produit également un effet creux de cathode qui facilite l'ionisation du gaz de plasma. En conséquence, un plasma glow-discharge équilibré est produit à la pression atmosphérique et aux fréquences de puissance aussi basses que 60 hertz. Selon un autre aspect de l'invention, le dépôt de vapeur est effectué en combination avec le traitement de plasma en vaporisant une substance d'intérêt, en la mélangeant au gaz de plasma, et en répandant le mélange par l'électrode poreuse. Un réchauffeur est utilisé pour maintenir la température de l'électrode au-dessus de la température de condensation de la substance pour empêcher le dépôt pendant la diffusion. Ainsi, le traitement de plasma et le dépôt de vapeur peuvent être effectués sur un substrat de cible en même temps à la pression atmosphérique.