A method for moving resist stripper across the surface of a semiconductor substrate. The method includes applying a wet chemical resist stripper, such as an organic or oxidizing wet chemical resist stripper, to at least a portion of a photomask positioned over the semiconductor substrate. A carrier fluid, such as a gas, is then directed toward the semiconductor substrate so as to move the resist stripper across the substrate. The carrier fluid may be directed toward the substrate as the resist stripper is being applied thereto or following application of the resist stripper. A system for effecting the method is also disclosed.

Μια μέθοδος για αντιστέκεται stripper πέρα από την επιφάνεια ενός υποστρώματος ημιαγωγών. Η μέθοδος περιλαμβάνει την εφαρμογή μιας υγρής χημικής ουσίας αντιστέκεται stripper, όπως μια οργανική ή οξειδωτική υγρή χημική ουσία αντισταθείτε stripper, τουλάχιστον σε μια μερίδα ενός photomask που τοποθετείται πέρα από το υπόστρωμα ημιαγωγών. Ένα ρευστό μεταφορέων, όπως το α αέριο, κατευθύνεται έπειτα προς το υπόστρωμα ημιαγωγών ώστε να κινηθεί αντιστέκεται stripper πέρα από το υπόστρωμα. Το ρευστό μεταφορέων μπορεί να κατευθυνθεί προς το υπόστρωμα δεδομένου ότι αντισταθείτε stripper εφαρμόζεται επιπλέον ή μετά από την εφαρμογή αντιστέκεται stripper. Ένα σύστημα για τη μέθοδο αποκαλύπτεται επίσης.