An exposure apparatus for performing exposure processing for a plurality of substrates in accordance with a plurality of jobs, including a first job and a second job to be performed subsequent to the first job, each of the jobs having predetermined operations and exposure parameters necessary for the exposure processing set in advance. The apparatus includes a switching device for switching from the first job to the second job during or after a period of exposure by a final shot of a final substrate of the plurality of substrates, to be exposed in accordance with the first job, and before the exposed final substrate is unloaded from a position at which the final substrate is exposed.

Un aparato de exposición para realizar la exposición que procesa para una pluralidad de substratos de acuerdo con una pluralidad de trabajos, incluyendo un primer trabajo y un segundo trabajo de ser subsecuente realizado al primer trabajo, cada uno de los trabajos que predeterminan las operaciones y los parámetros de la exposición necesarios para la exposición que procesa el sistema por adelantado. El aparato incluye un dispositivo de la conmutación para cambiar el primer trabajo a el segundo trabajo durante o después de que un período de la exposición por un tiro final de un substrato final de la pluralidad de substratos, de ser expuesto de acuerdo con el primer trabajo, y antes de que el substrato final expuesto se descargue de una posición en la cual se exponga el substrato final.