Methods for designing an integrated circuit is disclosed. In the present invention, the integrated circuit is first created by placing and routing standard cells of the integrated circuit. After routing the standard cells, empty spaces unused by the standard cells are extracted. After extracting the unused areas, clusters of metal-programmable transistors are inserted into the unused areas by an area-based placement/routing tool to form "ponds" of gates (POGs). When design changes are desired after the formation of the integrated circuit, the metal-programmable transistors are programmed to form desired spare cells to implement the desired design changes by making changes to the upper layer masks for the integrated circuit.

Des méthodes pour concevoir un circuit intégré est révélées. Dans la présente invention, le circuit intégré est d'abord créé en plaçant et en conduisant les cellules standard du circuit intégré. Après la conduite des cellules standard, les espaces vides inutilisés par les cellules standard sont extraits. Après avoir extrait les secteurs inutilisés, des faisceaux des transistors métal-programmables sont insérés dans les secteurs inutilisés par un outil secteur-basé de placement/routing pour former des "étangs" des portes (POGs). Quand des changements de conception sont désirés après la formation du circuit intégré, les transistors métal-programmables sont programmés aux cellules disponibles désirées par forme pour mettre en application les changements désirés de conception en faisant des changements aux masques supérieurs de couche pour le circuit intégré.