A member used within a plasma processing apparatus and exposed to a plasma of a halogen gas such as BCl.sub.3 or Cl.sub.2 is formed from a sintered body of metals of Group IIIa of Periodic Table such as Y, La, Ce, Nd and Dy, and Al and/or Si, for example, 3Y.sub.2 O.sub.3.multidot.5Al.sub.2 O.sub.3, 2Y.sub.2 O.sub.3.multidot.Al.sub.2 O.sub.3, Y.sub.2 O.sub.3.multidot.Al.sub.2 O.sub.3 or disilicate or monosilicate, and in particular, in this sintered body, the content of impurity metals of Group IIa of Periodic Table contained in the sintered body is controlled to be 0.15 wt % or more in total. Specifically, for this member, an yttrium-aluminum-garnet sintered body having a porosity of 3% or less and also having a surface roughness of 1 .mu.m or less in center line average roughness Ra is utilized.

Член используемый внутри плазма обрабатывая прибор и подвергаемый действию к плазме газа галоида such as BCl.sub.3 или Cl.sub.2 сформирован от спеченного тела металлов группы IIIa периодическаяа таблица such as ы, la, ce, nd и Dy, и al and/or кремний, например, 3ЈY.sub.2 O.sub.3.multidot.5ЈAl.sub.2 O.sub.3, 2Y.sub.2 O.sub.3.multidot.Al.sub.2 O.sub.3, Y.sub.2 O.sub.3.multidot.Al.sub.2 O.sub.3 или disilicate или monosilicate, и в частности, в этом спеченном теле, содержание металлов примеси группы IIa периодическаяа таблица, котор содержат в спеченном теле проконтролированы для того чтобы быть 0.15 веса % или больше в итоге. Специфически, для этого члена, использовано тело спеченное иттри-алюмини-veniso1 имея пористость 3% или и также имея поверхностную шершавость 1 mu.m или в ra шершавости разбивочной линии среднем.

 
Web www.patentalert.com

< (none)

< Chemical mechanical polishing for forming a shallow trench isolation structure

> Ceramic wiring board

> (none)

~ 00044