A solid composition consisting essentially of 5-98 parts by weight of heterocyclic compounds I ##STR1## where L.sup.1 is groups with a cyclic carbamate, a lactonoxy or a lactam structure, X is a carbonyl, a doubled carbonyl or a heterocarbonyl group, and R.sup.1 is an organic radical or a second moiety L.sup.1, and/or oxime esters II ##STR2## where L.sup.2 is an oxime moiety ##STR3## where R.sup.2, R.sup.3 and Z.sup.4 are organic radicals or linkers, L.sup.3 is the radical R.sup.1, a second oxime moiety L.sup.2 or a carboxylic ester residue, carboxamide residue, phenolate residue, vinyloxy radical, sulfonamide residue, imidazole residue, amidolactam residue, cyclic carbamate residue, lactonoxy residue or lactam residue, and m is 0 or 1, and 2-95 parts by weight of inert porous carrier materials with an internal surface area of from 10 to 500 m.sup.2 /g. The solid composition described is suitable as stable bleach activator component in detergents, bleaches and cleaners.

Μια στερεά σύνθεση που αποτελείται ουσιαστικά από 5-98 μέρη από το βάρος των ετεροκυκλικών ενώσεων Ι ## STR1 ## όπου L.sup.1 είναι ομάδες με κυκλικό carbamate, ένα lactonoxy ή μια δομή λακτάμης, Χ είναι ένα καρβονύλιο, ένα διπλασιασμένο καρβονύλιο ή ομάδα heterocarbonyl, και R.sup.1 είναι ένας οργανικός ριζοσπάστης ή μια δεύτερη μερίδα L.sup.1, ή/και oxime οι εστέρες ΙΙ ## STR2 ## όπου L.sup.2 είναι μια oxime μερίδα ## STR3 ## όπου R.sup.2, R.sup.3 και Z.sup.4 είναι οργανικοί ριζοσπάστες ή συνδετικοί εκδότες, L.sup.3 είναι το ριζικό R.sup.1, μια δεύτερη oxime μερίδα L.sup.2 ή ένα καρβοξυλικό υπόλειμμα εστέρα, carboxamide υπόλειμμα, phenolate υπόλειμμα, ριζοσπάστης vinyloxy, υπόλειμμα σουλφοναμίδης, imidazole υπόλειμμα, amidolactam από το βάρος των αδρανών πορωδών υλικών μεταφορέων με μια εσωτερική περιοχή επιφάνειας από 10 έως 500 m.sup.2/g. Η στερεά σύνθεση που περιγράφεται είναι κατάλληλη ως σταθερό τμήμα ενεργοποιητών χλωρίνης στα απορρυπαντικά, τις χλωρίνες και τους καθαριστές.

 
Web www.patentalert.com

< (none)

< Telomerase inhibitors and methods of their use

> Capacitor with defect isolation and bypass

> (none)

~ 00044