A probe (6) is brought into contact with a plasma produced by ionizing Ar gas, a saturation current (I.sub.es2) at which current flowing through the probe is saturated when the potential of the probe is changed in a potential region where the potential of the probe is higher than a ground potential, and a saturation current (I.sub.is2) at which current flowing through the probe is saturated when the potential of the probe is changed in a potential region where the potential of the probe is lower than the ground potential. Similarly, saturation currents (I.sub.es2, I.sub.is2) are measured by bringing the probe (6) into contact with a plasma produced by ionizing a mixed gas containing Ar gas and a process gas, such as C.sub.4 F.sub.8 gas, and changing the potential of the probe (6). The negative ion density of the plasma produced by ionizing C.sub.4 F.sub.8 gas is determined by using saturation current ratios (I.sub.is1 /I.sub.is2, I.sub.es1 /I.sub.es2).

Uma ponta de prova (6) é trazida no contato com um plasma produzido ionizando o gás de Ar, uma corrente do saturation (I.sub.es2) em que a corrente que corre através da ponta de prova saturated quando o potencial da ponta de prova é mudado em uma região potencial onde o potencial da ponta de prova seja mais elevado do que um potencial à terra, e uma corrente do saturation (I.sub.is2) em que a corrente que corre através da ponta de prova saturated quando o potencial da ponta de prova estiver mudado em uma região potencial onde o potencial da ponta de prova seja mais baixo do que o potencial à terra. Similarmente, as correntes do saturation (I.sub.es2, I.sub.is2) são medidas trazendo a ponta de prova (6) no contato com um plasma produzido ionizando um gás misturado que contem o gás de Ar e um gás process, tal como o gás de C.sub.4 F.sub.8, e mudando o potencial da ponta de prova (6). A densidade negativa do íon do plasma produziu ionizando o gás de C.sub.4 F.sub.8 é determinada usando as relações atuais do saturation (I.sub.is1 /I.sub.is2, I.sub.es1 /I.sub.es2).