A lithographic projection apparatus includes an illumination system for supplying a projection beam of electromagnetic radiation having a wavelength less than or equal to 50 nm, a mask table provided with a mask holder for holding a mask, a substrate table provided with a substrate holder for holding a substrate, a projection system for imaging an irradiated portion of the mask onto a target portion of the substrate, wherein the radiation system comprises an integrating element disposed in the path of the radiation, the integrating element comprising a hollow waveguide.

Литографский прибор проекции вклюает систему освещения для поставлять луч проекции электромагнитного излучения имея длину волны less than or equal to 50 nm, таблица маски обеспеченная с держателем маски для держать маску, таблицу субстрата обеспеченную с держателем субстрата для держать субстрат, систему проекции для воображения облученная часть маски на часть цели субстрата, при котором система радиации состоит из интегрируя элемента размещанного в курсе радиации, интегрируя элемент состоя из полого волновода.