An integrated deposition system is provided which is capable of vaporizing low vapor pressure liquid precursors and delivering this vapor into a processing region for use in the fabrication of advanced integrated circuits. The integrated deposition system is made up of a heated exhaust system, a remote plasma generator, a processing chamber and a liquid delivery system which together provide a commercially viable and production worthy system for depositing high capacity dielectric materials from low vapor pressure precursors, anneal those films while also providing commercially viable in-situ cleaning capability.

Интегрированная система низложения обеспечена способно испарять прекурсоры низкого давления пара жидкостные и поставлять этот пар в обрабатывая зону для пользы в изготовлении предварительных интегрированных цепей. Интегрированная система низложения сделана вверх нагретой выхлопной системы, дистанционного генератора плазмы, обрабатывая камеры и жидкостное средство доставки которое совместно обеспечивает систему коммерчески жизнеспособных и продукции достойную для депозировать материалы большой емкости диэлектрические от низких прекурсоров давления пара, обжигает те пленки пока также обеспечивающ коммерчески жизнеспособную in-situ возможность чистки.