The present invention provides a manufacturing environment (110) for a wafer fab, and an SPC environment (112) for setting control limits and acquiring metrology data of production runs. A computation environment (114) processes the SPC data, which are then analyzed in an analysis environment (116). An MES environment (118) evaluates the analysis and automatically executes a process intervention if the process is outside the control limits. Additionally, the present invention provides for an electrical power management system, a spare parts inventory and scheduling system and a wafer fab efficiency system. These systems employ algorithms (735, 1135 and 1335).

Присытствыющий вымысел обеспечивает производственную среду (110) для fab вафли, и окружающую среду spc (112) для устанавливать пределы управления и приобретать данные по метрологии выпусков продукции. Окружающая среда вычисления (114) обрабатывает данные по spc, которые после этого проанализированы в окружающей среде анализа (116). Окружающая среда MES (118) оценивает анализ и автоматически исполняет отростчатую интервенцию если процесс вне пределов управления. Дополнительно, присытствыющий вымысел обеспечивает для системаа организации хозяйства электропитания, инвентаря и системаа календарного планирования запасных частей и системы эффективности fab вафли. Эти системы используют алгоритмы (735, 1135 и 1335).