A consolidated LSI including a logic circuit section and a FeRAM section formed on a single chip has a hydrogen barrier layer covering the cell array of the FeRAM section. The hydrogen barrier layer is made of plasma CVD SiON and has an excellent hydrogen barrier function. The hydrogen barrier layer protects the ferroelectric film of a ferroelectric capacitor an against the hydrogen-annealing process in the fabrication a process for the consolidated LSI.

Geconsolideerde LSI met inbegrip van een sectie van de logicakring en een gevormde FeRAM- sectie over één enkele spaander heeft een laag die van de waterstofbarrière de celserie van de FeRAM- sectie behandelt. De laag van de waterstofbarrière wordt gemaakt van plasmacCvd SiON en heeft een uitstekende functie van de waterstofbarrière. De laag van de waterstofbarrière beschermt de ferroelectric film van een ferroelectric condensator tegen waterstof-onthardt verwerkt in de vervaardiging een proces voor geconsolideerde LSI.