The present invention provides methods and apparatus for analysis and monitoring of electrolyte bath composition. Based on analysis results, the invention controls electrolyte bath composition and plating hardware. Thus, the invention provides control of electroplating processes based on plating bath composition data. The invention accomplishes this by incorporating accurate bath component analysis data into a feedback control mechanism for electroplating. Bath electrolyte is treated and analyzed in a flow-through system in order to identify plating bath component concentrations and based on the results, the plating bath formulation and plating process are controlled.

A invenção atual fornece métodos e instrumento para a análise e a monitoração da composição de banho do eletrólito. Baseado em resultados da análise, a invenção controla a composição de banho do eletrólito e a ferragem do chapeamento. Assim, a invenção fornece o controle dos processos electroplating baseados em dados da composição de banho do chapeamento. A invenção realiza esta incorporando dados componentes da análise do banho exato em um mecanismo do controle do gabarito para electroplating. O eletrólito do banho é tratado e analisado em a flu-através do sistema a fim identificar concentrações componentes do banho do chapeamento e baseado nos resultados, o formulation do banho do chapeamento e o processo do chapeamento são controlados.