Lateral pores in a thin metal film as well as fabricating branching and expanding ore arrays can be fabricated by a method of growing long pores laterally underneath a ask by use of stress compliant masks or varying the anodization voltage. Applications range from use with scanning electron microscope (SEM-compatible single molecule probe stations), to nanowire fixtures and to the use with a "pixelating, nonscanning" near field optical microscope (NOM). Pores are defined by conventional anodization vertically into the underlying membrane of preporous material through any overlying masking layers. The general solution is to utilize mechanically stable masks that withstand the stress during anodization and counteract the pore formation stress to lead to good pore ordering and directed growth. Multilayer masks are well suited for this. With a composition of materials having different elastic properties, tensile stress can be matched to counteract compressive stress caused by porous material growth. The boundary stress problem between preporous and porous material is solved by using a planarizing mask material that provides locally increased masking layer thickness at the critical boundary between nonporous and porous material in the film.

Боковые поры в тонком металле снимают также,как изготовляя разветвлять и расширяя блоки штуфа могут быть изготовлены методом расти длинние поры боково под спрашивать by use of маски усилия уступчивые или менять напряжение тока анодизации. Применения колебаются от пользы с микроскопом электрона скеннирования (СЕМ-sovmestimymi одиночными станциями зонда молекулы), к приспособлениям nanowire и к пользе при "pixelating, nonscanning" около микроскопа поля оптически (NOM). Поры определены обычной анодизацией вертикальн в основную мембрану preporous материала через все overlying маскируя слои. Решение в общем виде должно использовать механически стабилизированные маски выдерживают усилие во время анодизации и противодействуют усилие образования поры для ведения к хороший приказывать поры и сразу росту. Разнослоистые маски наилучшим образом одеты для этого. С составом материалов имея по-разному эластичные свойства, растяжимое усилие можно сопрягать для того чтобы противодействовать давление при сжатии причиненное пористым материальным ростом. Проблема усилия границы между preporous и пористым материалом разрешена путем использование planarizing материала маски обеспечивает местно увеличенную толщину маскируя слоя на критически границе между nonporous и пористым материалом в пленке.