The invention relates to a method for fabricating in particular a TMR element for use in a MRAM, wherein a mask is arranged on a substrate and structured in such a manner that it shadows but does not cover a surface region of the substrate, and wherein material of the structure which is to be fabricated is then deposited on the substrate in a directed deposition process. The invention also relates to a component with a micro-technical structure which has been fabricated in this manner.

Die Erfindung bezieht auf einer Methode für ein TMR Element für Gebrauch in einem MRAM insbesondere fabrizieren, worin eine Schablone auf einem Substrat geordnet wird und strukturiert, derart daß sie beschattet, aber nicht eine Oberflächenregion des Substrates umfaßt, und worin Material der Struktur, die fabriziert werden soll, dann auf dem Substrat in einem verwiesenen Absetzungprozeß niedergelegt wird. Die Erfindung bezieht auch auf einem Bestandteil mit einer Mikro-technischen Struktur, die in dieser Weise fabriziert worden ist.