The invention relates to a method of fabricating an optical fiber-processing phase mask in which a stitching error ascribable to a deterioration in the wavelength selectivity of the optical fiber diffraction grating to be fabricated is reduced. At an exposure step, a writing stage 5 with a phase mask blank 10 placed thereon is continuously fed in one direction while portions of the phase mask blank corresponding to grooves 26 or strips 27 in a direction perpendicular to the direction of feeding are sequentially scanned with writing beams 14, whereby the entire area of the phase mask blank 10 to be written is continuously written.

Η εφεύρεση αφορά μια μέθοδο μια οπτική ίνα-επεξεργαμένος μάσκα φάσης στην οποία ένα λάθος ραψίματος αποδοτέο σε μια επιδείνωση στην επιλεκτικότητα μήκους κύματος του κιγκλιδώματος διάθλασης οπτικών ινών που κατασκευάζεται μειώνεται. Σε ένα βήμα έκθεσης, ένα στάδιο 5 γραψίματος με ένα κενό 10 μασκών φάσης που τοποθετείται επ'αυτού ταϊ'ζεται συνεχώς σε μια κατεύθυνση ενώ οι μερίδες του κενού μασκών φάσης που αντιστοιχεί στα αυλάκια 26 ή τις λουρίδες 27 σε μια κάθετο κατεύθυνσης στην κατεύθυνση της σίτισης ανιχνεύονται διαδοχικά με το γράψιμο των ακτίνων 14, με το οποίο η ολόκληρη περιοχή του κενού 10 μασκών φάσης για να γραφτεί γράφεται συνεχώς.