A radiation absorbing polymer having chemically bonded thereto a radiation absorbing dye, which has high absorption at a predetermined wavelength radiation, which shows good adhesion to a substrate and good thin film-forming, which has no dependence upon resists, which is soluble in a solvent for photoresists but becomes insoluble after being baked; a composition for radiation absorbing coating containing this polymer, and a radiation absorbing coating such as an anti-reflective coating formed from this composition are disclosed. The radiation absorbing polymer comprises a copolymer containing at least both a recurring unit composed of a monomer containing a keto group and a divalent group (preferably a methylene group) in its side chain and a recurring unit composed of a monomer containing an organic chromophore bonded directly or through a linkage group to the main chain. This radiation absorbing polymer is dissolved in a solvent such as alcohol, aromatic hydrocarbon, ketone, ester, etc., and the resulting solution is applied to a wafer and baked to form a radiation absorbing coating such as an anti-reflective coating. On this coating is coated, for example, a chemically amplified resist. This coated substrate is then exposed to deep UV rays and is developed to form a fine resist pattern excluding the influence of standing wave.

Un polymère absorbant de rayonnement chimiquement ayant collé là-dessus un colorant absorbant de rayonnement, qui a l'absorption élevée à un rayonnement prédéterminé de longueur d'onde, qui montre la bonne adhérence à un substrat et bon filmogène mince, qui a aucune dépendance au moment ne résiste, qui est soluble dans un dissolvant pour des vernis photosensibles mais cuire au four devient insoluble après avoir été fait ; une composition pour enduire absorbant de rayonnement contenant ce polymère, et enduire absorbant de rayonnement tel qu'un enduit anti-r3fléchissant formé de cette composition sont révélés. Le polymère absorbant de rayonnement comporte un copolymère contenant au moins une unité se reproduisante composée de monomère contenant un groupe de cétonique et un groupe bivalent (de préférence un groupe de méthylène) dans sa chaîne latérale et une unité se reproduisante composés de monomère contenant un chromophore organique collé directement ou par un groupe de tringlerie sur la chaîne principale. Ce polymère absorbant de rayonnement est dissous dans un dissolvant tel que l'alcool, l'hydrocarbure aromatique, la cétone, l'ester, etc., et la solution résultante est appliquée à une gaufrette et faite cuire au four pour former enduire absorbant de rayonnement tel qu'un enduit anti-r3fléchissant. Sur cet enduit est enduit, par exemple, chimiquement amplifié résistent. Ce substrat enduit est alors exposé aux rayons UV profonds et est développé pour former une amende résistent au modèle à l'exclusion de l'influence de la vague se tenante.