A method of forming a micro structure having nano-sized surface features is provided. The method includes the steps of forming a micro structure having predetermined size and shape on a substrate, coating a carbon polymer layer on the substrate including the micro structure to a predetermined thickness, performing a first etch on the carbon polymer layer by means of plasma etching using a reactive gas in which O.sub.2 gas for etching the carbon polymer layer and a gas for etching the micro structure are mixed and forming a mask layer by the residual carbon polymer layer on the surface of the micro structure, and performing a second etch by means of plasma etching using the mixed reactive gas to remove the mask layer and etch the surface of the micro structure not covered by the mask layer so that the micro structure has nano-sized surface features.

Un método de formar una estructura micro nano-que clasifica las características superficiales se proporciona. El método incluye los pasos de formar una estructura micro que predetermina tamaño y forma en un substrato, cubriendo una capa del polímero del carbón en el substrato incluyendo la estructura micro a un grueso predeterminado, realizando un primer grabado de pistas en la capa del polímero del carbón por medio de la aguafuerte del plasma usando un gas reactivo en el cual el gas O.sub.2 para grabar al agua fuerte la capa del polímero del carbón y un gas para grabar al agua fuerte la estructura micro sean mezclados y de formaciones de una capa de la máscara por la capa residual del polímero del carbón en la superficie de la estructura micro, y realizando un segundo grabado de pistas por medio de la aguafuerte del plasma usando el gas reactivo mezclado para quitar la capa de la máscara y para grabar al agua fuerte la superficie del micro estructura no cubierta por la capa de la máscara de modo que la estructura micro nano-haya clasificado las características superficiales.