In a process for manufacturing integrated circuit elements or the like by photolithography, a method for reducing detrimental influence on resist shape due to properties of a substrate or acidity of substrate surface in case where a chemically amplified resist or the like is used as a photoresist, and a substrate-treating agent composition to be used for this method are described. The substrate-treating agent composition comprises a solution containing a salt between at least one basic compound selected from among primary, secondary and tertiary amines and nitrogen-containing heterocyclic compounds and an organic acid such as a sulfonic acid or a carboxylic acid. This composition is coated on a substrate surface having thereon a bottom anti-reflective coating such as SiON layer, baked and, if necessary washed, then a chemically amplified resist is coated on the thus-treated substrate, exposed and developed to form a resist pattern on the substrate.

In een proces om elementen of dergelijke van geïntegreerde schakelingen door fotolithografie te vervaardigen, verzet een methode om schadelijke invloed te verminderen zich tegen vorm toe te schrijven aan eigenschappen van een substraat of de zuurheid van substraatoppervlakte voor het geval dat waar chemisch vergroot zich verzet tegen worden of dergelijke als photoresist wordt gebruikt, en een substraat-behandelende agentensamenstelling dat voor deze methode moet worden gebruikt beschreven. _ de substraat-be*handelen agent samenstelling be*staan een oplossing be*vatten een zout tussen minstens één basis samenstelling selecteren van onder primair, secundair en tertiair amine en stikstofhoudend heterocyclisch samenstelling en een organisch zuur zoals een sulfon zuur of een carboxylic zuur. Deze samenstelling is met een laag bedekt op een substraatoppervlakte die daarop een gebakken bodem anti-weerspiegelende deklaag zoals laag SiON heeft, en, indien nodig gewassen, dan verzet tegen chemisch vergroot zich is met een laag bedekt op het dus-behandelde substraat, blootgesteld en ontwikkeld om te vormen verzet me tegen patroon op het substraat.