The present invention provides for an improved electron gun evaporation source using high direct current negative voltage for forming high energy electron beams to produce thin-film coatings on a variety of substrates. The present invention further provides for the use of a grounded metallic shield which functions as an electrode enclosing both the filament leads and emitter structures of an electron beam source.

Η παρούσα εφεύρεση προβλέπει μια βελτιωμένη πηγή εξάτμισης πυροβόλων όπλων ηλεκτρονίων χρησιμοποιώντας την υψηλή άμεση τρέχουσα αρνητική τάση για τη διαμόρφωση των υψηλών δεσμών ενεργειακών ηλεκτρονίων για να παραγάγει τα λεπτά επιστρώματα σε ποικίλα υποστρώματα. Η παρούσα εφεύρεση προβλέπει περαιτέρω τη χρήση μιας στηριγμένης μεταλλικής ασπίδας που λειτουργεί ως ηλεκτρόδιο που εσωκλείει και τους μολύβδους ινών και τις δομές εκπομπών μιας πηγής δεσμών ηλεκτρονίων.