A pattern reading apparatus reads a pattern from a reflective object. The pattern reading apparatus includes a minute-area light source, an objective lens system, an imaging lens, and an imaging element. The objective lens system causes the illumination light beam from the light source to be incident on the object and converges the light beam reflected from the object. The imaging lens forms an image of the object using only a diffused component of light which has been reflected from the object. The imaging element is positioned where the image of the pattern is imaged for reading the pattern.

Ein Musterleseapparat liest ein Muster von einem reflektierenden Gegenstand. Der Musterleseapparat schließt eine Minute-Bereich Lichtquelle, ein objektives Objektivsystem, ein Belichtung Objektiv und ein Belichtung Element ein. Das objektive Objektivsystem veranläßt der Ablichtung Lichtstrahl von der Lichtquelle, Ereignis auf dem Gegenstand zu sein und läuft der Lichtstrahl zusammen, der vom Gegenstand reflektiert wird. Das Belichtung Objektiv bildet ein Bild des Gegenstandes mit nur einem zerstreuten Bestandteil des Lichtes, das vom Gegenstand reflektiert worden ist. Das Belichtung Element wird in Position gebracht, wo das Bild des Musters für das Ablesen des Musters abgebildet ist.