Disclosed is a positive photoresist composition comprising an alkali-soluble polysiloxane containing as a copolymerization component at least a structural unit represented by the following formula (I') and a positive photoresist composition comprising an acid-decomposable polysiloxane containing as a copolymerization component at least a structural unit represented by the following formula (I"): ##STR1## wherein L1 represents at least one divalent linking group selected from --A--OCO--, --A--COO--, --A--NHCO--, --A--NHCOO--, --A--NHCONH--, --A--CONH--, --A--OCONH-- and --A--S--, A represents a single bond or an arylene group, X represents a divalent linking group, and n represents an integer of 1 to 6.

Se divulga una composición positiva del photoresist que abarca un polysiloxane soluble en álcali que contiene como componente de la copolimerización por lo menos una unidad estructural representada por el fórmula siguiente (I ') y una composición positiva del photoresist que abarca un polysiloxane a'cido-descomponible que contiene como componente de la copolimerización por lo menos una unidad estructural representada por el fórmula siguiente (I"): ## del ## STR1 en donde L1 representa por lo menos a un grupo que se liga bivalente seleccionado de -- a -- oco --. -- a -- coo --. -- a -- nhco --. -- a -- nhcoo --. -- a -- nhconh --. -- a -- conh --. -- a -- oconh -- y -- a -- s --. A representa un solo enlace o un grupo del arylene, X representa a grupo que se liga bivalente, y n representa un número entero de 1 a 6.