A charged-particle beam exposure system includes a charged-particle beam exposure apparatus for forming a pattern on a sample by charged-particle beam exposure using both a character projection exposure method and a variable shaped beam exposure method, a standard cell library which stores information of a plurality of standard cells that optimize circuit patterns for function units, an aperture mask which is set in the charged-particle beam exposure apparatus, bears characters corresponding to the standard cells, and has an aperture block falling within the irradiation range of the charged-particle beam exposure apparatus, a CP aperture mask management table which stores an index unique to each aperture block that is formed on the aperture mask and bears the characters corresponding to the standard cells, information of the standard cells corresponding to the characters laid out on each aperture block, and the number of charged-particle beam shots necessary to expose all the characters corresponding to the standard cells by the character projection exposure method, and a design unit for designing a layout by looking up the standard cell library and the CP aperture mask management table.

Un sistema di esposizione del fascio della caric-particella include un'apparecchiatura per l'esposizione del fascio della caric-particella per formare un modello su un campione tramite esposizione del fascio della caric-particella usando sia un metodo di esposizione della proiezione del carattere che un a forma di metodo variabile di esposizione del fascio, una biblioteca delle cellule standard che memorizza le informazioni di una pluralità di cellule standard che ottimizzano i modelli del circuito per le unità di funzione, una mascherina che è regolata nell'apparecchiatura per l'esposizione del fascio della caric-particella, sopporta i caratteri che corrispondono alle cellule standard ed ha un blocchetto dell'apertura fare parte della gamma di irradiazione dell'apparecchiatura per l'esposizione del fascio della caric-particella, una tabella dell'apertura dell'amministrazione della mascherina dell'apertura di CP che immagazzina un indice unico ad ogni blocchetto dell'apertura che è formato sulla mascherina dell'apertura e sopporta i caratteri che corrispondono alle cellule standard, alle informazioni delle cellule standard che corrispondono ai caratteri presentati su ogni blocchetto dell'apertura ed al numero di colpi del fascio della caric-particella necessari per esporre tutti i caratteri che corrispondono alle cellule standard dal metodo di esposizione della proiezione del carattere e da un'unità di disegno per la progettazione della disposizione cercando la biblioteca della casella standard e dell'amministrazione della mascherina dell'apertura di CP.