A chemically amplified resist composition is disclosed which shows a high sensitivity, high resolution, excellent processing adaptability and excellent processing stability, which can form good pattern profile and which is suited as a finely processable material for use in manufacturing integrated circuit elements or the like. The chemically amplified resist composition comprises at least (a) an organic material containing a substituent or substituents capable of being released in the presence of an acid and (b) compounds capable of generating an acid upon exposure to radiation (acid-generators), composed of at least one onium salt and at least one of sulfone compounds and sulfonate compounds. This chemically amplified resist composition preferably further contains a basic compound.

Químicamente amplificado resiste la composición se divulga que demuestra una alta sensibilidad, una alta resolución, una adaptabilidad de proceso excelente y una estabilidad de proceso excelente, que pueden formar buen perfil del patrón y cuál se satisface como material finalmente procesable para el uso en la fabricación de elementos de circuito integrado o de los similares. Químicamente amplificados resisten la composición abarcan por lo menos (a) un material orgánico que contiene un sustituto o los sustitutos capaces de ser lanzado en la presencia de un ácido y (b) componen capaz de generar un ácido sobre la exposición a la radiación (a'cido-generadores), integrado por por lo menos un sal del onium y por lo menos una de compuestos del sulfone y de compuestos del sulfonate. Esto químicamente amplificada resiste la composición preferiblemente más futura contiene un compuesto básico.