A bottom electrode, a dielectric film and a top electrode are sequentially provided on a substrate portion. The bottom electrode comprises an adhesive layer including IrHf, a precious metal layer including Ir, an oxygen inclusion layer including IrHfO, and a precious metal layer including Ir in sequence on the substrate portion. At the time of forming dielectric film, RTA (Rapid thermal annealing) is performed and thereafter inert gas thermal annealing is performed at a temperature equal to or higher than that in RTA, or reduction thermal annealing, thereby preventing deterioration of characteristics which occurs through hydrogen annealing. Moreover, the precious metal layer is provided between the adhesive layer and the oxygen inclusion layer. Therefore, adhesion of the bottom electrode is secured even though inert gas thermal annealing or reduction thermal annealing is performed in order to prevent deterioration of characteristics.

Eine Grundelektrode, ein dielektrischer Film und eine obere Elektrode werden der Reihe nach auf einem Substratteil zur Verfügung gestellt. Die Grundelektrode enthält eine Klebstoffschicht einschließlich IrHf, eine kostbares Metallschicht einschließlich Ir, eine Sauerstoffeinbeziehung Schicht einschließlich IrHfO und eine kostbares Metallschicht einschließlich Ir in der Reihenfolge auf dem Substratteil. Zu der Zeit der Formung des dielektrischen Filmes, wird RTA (schnelles thermisches Ausglühen) und danach Edelgas, das thermisches Ausglühen bei einer Temperatur durchgeführt wird, die oder stark als die in RTA gleich ist oder Verkleinerung das thermische Ausglühen durchgeführt, dadurch verhindert man Verschlechterung von Eigenschaften, die durch Wasserstoffausglühen auftritt. Außerdem wird die kostbares Metallschicht zwischen der Klebstoffschicht und der Sauerstoffeinbeziehung Schicht zur Verfügung gestellt. Folglich wird Adhäsion der Grundelektrode gesichert, obwohl thermisches Ausglühen des Edelgases oder Verkleinerung thermisches Ausglühen durchgeführt wird, um Verschlechterung von Eigenschaften zu verhindern.