A device, and its production method, the device has a substrate and a coating composition, the coating composition being formed by the gas phase or plasma polymerization of a gas comprising at least one organic compound or monomer. The polymerization is carried out using a pulsed discharge having a duty cycle of less than about 1/5, in which the pulse-on time is less than about 100 msec and the pulse-off time is less than about 2000 msec. The duty cycle can also be varied, thus the coating composition can be gradient layered accordingly. The device has a coating composition which is uniform in thickness, pin-hole free, optically transparent in the visible region of the magnetic spectrum, permeable to oxygen, abrasive resistant, wettable and biologically non-fouling.

Un dispositif, et sa méthode de production, le dispositif a un substrat et une composition enduisante, la composition enduisante constitué par la phase gaseuse ou la polymérisation de plasma d'un gaz comportant au moins un composé ou monomère organique. La polymérisation est effectuée en utilisant une décharge pulsée ayant un coefficient d'utilisation moins qu'environ de 1/5, dans lequel impulsion-sur le temps est moins qu'environ 100 millisecondes et le temps d'impulsion-au loin sont moins qu'environ 2000 millisecondes. Le coefficient d'utilisation peut également être changé, ainsi la composition enduisante peut être gradient posé en conséquence. Le dispositif a une composition enduisante qui est uniforme dans l'épaisseur, trou d'épingle librement, optiquement transparente dans la région évidente du spectre magnétique, perméable à l'oxygène, à résistant, mouillable abrasif et non-encrassant biologiquement.