The photosensitive polymer includes a first monomer which is norbornene ester having C.sub.1 to C.sub.12 aliphatic alcohol as a substituent, and a second monomer which is maleic anhydride. A chemically amplified photoresist composition, containing the photosensitive polymer, has an improved etching resistance and adhesion to underlying layer materials, and exhibits wettability to developing solutions.

Το φωτοευαίσθητο πολυμερές σώμα περιλαμβάνει ένα πρώτο μονομερές που είναι norbornene εστέρας που έχει C.sub.1 στο αλειφατικό οινόπνευμα C.sub.12 ως substituent, και ένα δεύτερο μονομερές που είναι μηλεϊνικός ανυδρίτης. Μια χημικά ενισχυμένη photoresist σύνθεση, που περιέχει το φωτοευαίσθητο πολυμερές σώμα, έχει μια βελτιωμένες αντίσταση και μια προσκόλληση χάραξης στα ελλοχεύοντα υλικά στρώματος, και εκθέτει wettability στην ανάπτυξη των λύσεων.