This invention provides an article, compositions, methods of making and uses of vapor-deposited metal compounds immobilized on porous substrates. The substrate is a porous substrate having an average pore size of at least about 8 .ANG. and a surface area of at least about 10 m.sup.2 /g. The methods describe the vapor-deposition of an inorganic compound onto the substrate where the deposition is accomplished with a relatively small amount of ligand loss. The substrate can be pre-treated to achieve a uniformly dispersed metal compound deposited on the substrate. The inorganic compound can decompose into a metal compound. The article can also function as a catalyst for carbon-heteroatom coupling reactions such as carbon-carbon coupling reactions, most notably, the Heck reaction.

Αυτή η εφεύρεση παρέχει ένα άρθρο, τις συνθέσεις, τις μεθόδους και τις χρήσεις των ατμός-κατατεθειμένων ενώσεων μετάλλων που ακινητοποιούνται στα πορώδη υποστρώματα. Το υπόστρωμα είναι ένα πορώδες υπόστρωμα που έχει ένα μέσο μέγεθος πόρων τουλάχιστον περίπου 8. ANG και μια έκταση επιφάνειας τουλάχιστον περίπου 10 m.sup.2/g. Οι μέθοδοι περιγράφουν την ατμός-απόθεση μιας ανόργανης ένωσης επάνω στο υπόστρωμα όπου η απόθεση ολοκληρώνεται με ένα σχετικά μικρό ποσό απώλειας ligand. Το υπόστρωμα μπορεί να επεξεργαστεί εκ των προτέρων για να επιτύχει μια ομοιόμορφα διασκορπισμένη ένωση μετάλλων που κατατίθεται στο υπόστρωμα. Η ανόργανη ένωση μπορεί να αποσυνθέσει σε μια ένωση μετάλλων. Το άρθρο μπορεί επίσης να λειτουργήσει ως καταλύτη για τις αντιδράσεις συζεύξεων άνθρακα -άνθρακας-χετεροατομ όπως οι αντιδράσεις συζεύξεων άνθρακας-άνθρακα, ο ειδικότερα, η αντίδραση Heck.