In order to provide a thin film magnetic head having a high performance as
well as a method of manufacturing the same, in which throat height TH of a
pole portion and MR height MRH can be formed accurately to have desired
design values for improving a surface recording density and reducing a
side fringe magnetic flux during a writing, an MR film is formed such that
the film is embedded in a shield gap layer formed on a substrate, a first
magnetic layer is formed on the shield gap layer, a thin film coil, is
formed on the first magnetic layer such that the coil is isolated by an
insulating layer, and a second magnetic layer is formed in accordance with
a given pattern. The gap layer is selectively removed by an anisotropic
etching in the vicinity of side walls of a pole portion of the second
magnetic layer, and then the first magnetic layer is partially removed by
an ion milling to form recesses having an inner side wall which serves as
a positional reference. An air bearing surface is polished on the basis of
a position of this inner side wall of the recess.
Um einen magnetischen Kopf des Dünnfilms zur Verfügung zu stellen, der eine hohe Leistung sowie eine Methode der Produktion dasselbe, in denen Kehlehöhe TH eines Pfostenteils und des HERRN Höhe MRH genau gebildet werden kann um gewünschte Designwerte für das Verbessern einer Oberflächenaufzeichnungsdichte und das Verringern eines magnetischen Flusses der seitlichen Franse während eines Schreibens zu haben hat, wird ein HERR, den Film so daß der Film in einer Schildabstand Schicht eingebettet wird, die auf einem Substrat gebildet wird, eine erste magnetische Schicht gebildet wird gebildet auf der Schildabstand Schicht, eine Dünnfilmspule, wird gebildet auf der ersten magnetischen Schicht so daß die Spule durch eine Isolierschicht lokalisiert wird, und an zweiter Stelle magnetische Schicht wird in Übereinstimmung mit einem gegebenen Muster gebildet. Die Abstand Schicht wird selektiv durch eine anisotrope Radierung in der Nähe der seitlichen Wände eines Pfostenteils der zweiten magnetischen Schicht entfernt, und dann wird die erste magnetische Schicht teilweise durch ein Ion entfernt, das prägt, um die Aussparungen zu bilden, die eine innere seitliche Wand haben, die als Positionshinweis dient. Eine Luftpolsteroberfläche wird auf der Grundlage von eine Position dieser inneren seitlichen Wand der Aussparung poliert.
