Provided is a novel chamber effluent monitoring system. The system
comprises a chamber having an exhaust line connected thereto. The exhaust
line includes a sample region, wherein substantially all of a chamber
effluent also passes through the sample region. The system further
comprises an absorption spectroscopy measurement system for detecting a
gas phase molecular species. The measurement system comprises a light
source and a main detector in optical communication with the sample region
through one or more light transmissive window. The light source directs a
light beam into the sample region through one of the one or more light
transmissive window. The light beam passes through the sample region and
exits the sample region through one of the one or more light transmissive
window. The main detector responds to the light beam exiting the sample
region. The system allows for in situ measurement of molecular gas
impurities in a chamber effluent, and in particular, in the effluent from
a semiconductor processing chamber. Particular applicability is found in
semiconductor manufacturing process control and hazardous gas leak
detection.
При условии системы контроля камеры романа выходящий. Система состоит из камеры имея линию вытыхания быть соединенным к тому. Линия вытыхания вклюает зону образца, при котором существенн весь из effluent камеры также проходит через зону образца. Система более дальнейшая состоит из системы измерения спектроскопии абсорбциы для обнаруживать вид участка газа молекулярный. Система измерения состоит из источника света и главного детектора в оптически сообщении с зоной образца до one or more окно света transmissive. Источник света направляет световой луч в зону образца через одно из one or more окно света transmissive. Световой луч проходит через зону образца и выходит зона образца через одно из one or more окно света transmissive. Главный детектор отвечает к световому лучу выходя зона образца. Система позволяет для in situ измерения молекулярных примесей газа в effluent камеры, и в частности, в effluent от полупроводника обрабатывая камеру. Определенная применимость найдена в управлении процесса производства полупроводника и опасном обнаружении утечки газа.
