A system for estimating a plasma damage for subsequent layout design of a semiconductor device includes an antenna ratio extraction unit for extracting an antenna ratio from each of existing provisional layout patterns to be exposed to plasma in each of plasma processes. An index calculation unit is connected to the antenna ratio extraction unit for receiving the antenna ratio extracted by the antenna ratio extraction unit and calculating an individual damage index representing a degree of a plasma damage in accordance with the antenna ratio. An index addition unit is connected to the index calculation unit for receiving the individual damage indexes from the index calculation unit and adding the individual damage indexes to estimate a plasma damage.

Un sistema para estimar un daño del plasma para el diseño subsecuente de la disposición de un dispositivo de semiconductor incluye una unidad de la extracción del cociente de la antena para extraer un cociente de la antena de cada uno de patrones provisionales existentes de la disposición que se expondrán al plasma en cada uno de procesos del plasma. Una unidad del cálculo del índice está conectada con la unidad de la extracción del cociente de la antena para recibir el cociente de la antena extraído por la unidad de la extracción del cociente de la antena y calcular un índice individual del daños que representa un grado de un daño del plasma de acuerdo con el cociente de la antena. Una unidad de la adición del índice está conectada con la unidad del cálculo del índice para recibir los índices individuales del daños de la unidad del cálculo del índice y agregar los índices del daños del individuo para estimar un daño del plasma.