A structure for preventing and controlling Arcing Across Thin Dielectric Film in sputtering and other process that generate electric fields and cause arcing across conductive structures. In an embodiment, an extraneous window or two extraneous windows are formed in a second dielectric layer under at least of a portion of a lead to that a "hot spot" area is created where arcing is more likely to occur.

Una estructura para la formación de arcos de prevención y que controla a través de la película dieléctrica fina en proceso de farfulla y otro que genera campos eléctricos y causa la formación de arcos a través de las estructuras conductoras. En una encarnación, una ventana extraña o dos ventanas extrañas se forma en una segunda capa dieléctrica debajo por lo menos de una porción de un conducir a eso que se crea un área del "punto caliente" donde está más probable la formación de arcos ocurrir.