Nitrile/fluoroalcohol-containing photoresists and associated processes for microlithography are described. These photoresists are comprised of a fluoroalcohol functional group and a nitrile-containing compound which together simultaneously impart high ultraviolet (UV) transparency and developability in basic media to these materials. The materials of this invention have high UV transparency, particularly at short wavelengths, e.g., 157 nm, which makes them highly useful for lithography at these short wavelengths.

Фоторезисты Nitrile/fluoroalcohol-containing и associated процессы для microlithography описаны. Эти фоторезисты состоятся из группы fluoroalcohol функциональной и nitrile-containing смеси совместно одновременно impart высоко ультрафиолетов (UV) транспарант и developability в основных средствах к этим материалам. Материалы этого вымысла имеют высокий UV транспарант, определенно на скоро длинах волны, например, 157 nm, который делает их высоки полезным для литографирования на этих скоро длинах волны.