A method of fabricating an SrRuO.sub.3 thin film is disclosed. The method utilizes a multi-step deposition process for the separate control of the Ru reagent, relative to the Sr reagent, which requires a much lower deposition temperature than the Sr reagent. A Ru reagent gas is supplied by a bubbler and deposited onto a substrate. Following the deposition of the Ru reagent, the Sr liquid reagent is vaporized and deposited onto the Ru layer.

Um método de fabricar uma película SrRuO.sub.3 fina é divulgado. O método utiliza um processo multi-step do deposition para o controle separado do reagent do Ru, relativo ao reagent do sr, que requer uma temperatura muito mais baixa do deposition do que o reagent do sr. Um gás do reagent do Ru é fornecido por um bubbler e depositado em uma carcaça. Depois do deposition do reagent do Ru, o reagent líquido do sr é vaporizado e depositado na camada do Ru.