A process is provided for the preparation of a metallic oxide composite including mixing an aqueous solution of a water-soluble metal compound and colloidal silica, depositing the mixture upon a substrate, heating the mixture-coated substrates at temperatures from about 150.degree. C. to about 300.degree. C. for time sufficient to form a metallic oxide film, and, removing the silica from the metallic oxide film whereby a porous metal oxide structure is formed.

Um processo é fornecido para a preparação de um composto metálico do óxido including misturar uma solução aqueous de um silicone composto e colloidal water-soluble do metal, depositando a mistura em cima de uma carcaça, aquecendo as carcaças mistura-revestidas em temperaturas aproximadamente de 150.degree. C. aproximadamente a 300.degree. C. por o tempo suficiente dar forma a uma película metálica do óxido, e, removendo o silicone da película metálica do óxido por meio de que uma estrutura porosa do óxido de metal é dada forma.

 
Web www.patentalert.com

< (none)

< Aluminum trihydroxide phase

> Liquid crystal display device, wiring substrate, and methods for fabricating the same

> (none)

~ 00058