A method for fabricating or prototyping a nanoscale object is disclosed. The method includes defining a sequence of nanolayers that represent the nanoscale object, constructing a current nanolayer on a first surface, and depositing a sacrificial layer to cover the first surface but not the nanolayer. The nanolayer represents a slice of the nanoscale object. The nanolayer and the sacrificial layer provide a second surface on which a next nanolayer is constructed. The above construction and deposition steps are repeated if the next nanolayer is not the last nanolayer. The method also includes removing the sacrificial layers to produce the nanoscale object.

Een methode om of prototyping wordt een nanoscalevoorwerp te vervaardigen onthuld. De methode omvat het bepalen van een opeenvolging van nanolayers die het nanoscalevoorwerp dat vertegenwoordigen, dat een huidige nanolayer op een eerste oppervlakte construeert, en een offerlaag deponeert om de eerste oppervlakte maar niet nanolayer te behandelen. Nanolayer vertegenwoordigt een plak van het nanoscalevoorwerp. Nanolayer en de offerlaag verstrekken een tweede oppervlakte waarop een volgende nanolayer wordt geconstrueerd. De bovengenoemde bouw en depositostappen worden herhaald als volgende nanolayer niet laatste nanolayer is. De methode omvat ook het verwijderen van de offerlagen om het nanoscalevoorwerp te veroorzaken.